一、国内EUV光刻机2027年能否完成样机研发
国内EUV光刻机无法在2027年完成可投入量产验证的整机样机研发，仅有望在2027年下半年完成原理样机的集成测试，并启动中试线验证工作
1. 2025年初国内首台EUV原型机完成组装并成功点亮，进入实验性生产阶段，核心模块实现国产化；2025年12月公开信息显示，该原型机已完成关键子系统联调，自研13.5纳米波长极紫外光源实现稳定输出，功率达250瓦，光学系统实测数值孔径达0.42，超越低数值孔径EUV的0.33阈值，整机集成度达67.4%，部分核心部件国产化率较高，计划于2027年进入中试线验证阶段。
2.上海微电子首台原理样机预计最早于2027年下半年完成集成测试。
1.技术短板突出：当前原型机在光源功率稳定性、原子级光学元件精度、EUV光刻胶灵敏度等方面仍存在明显短板，良率与产能距离国际商用水平尚有较大差距，国内暂无企业具备量产NA≥0.33的EUV反射式物镜系统能力，相关关键参数未达到ASML商用标准。
2.验证周期要求严格：原理样机完成集成测试后，还需要不少于18个月的整机性能验证与可靠性考核周期，结合国家重大科技专项较高的验收标准，当前国内公开披露的试验平台距离实际量产工艺节点仍存在代际差距，无法在2027年内完成全部研发流程。